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Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响
秦俊岭, 易葵, 邵建达
2006, 12(2): 81-85.
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ECR-CVD制备氟化非晶碳低k介质薄膜
吴振宇, 杨银堂, 汪家友
2006, 12(2): 86-90.
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多层式金刚石薄膜的制备工艺研究
阮建锋, 夏义本, 王林军, 刘健敏, 蒋丽雯, 崔江涛, 苏青峰, 史伟民
2006, 12(2): 91-94.
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退火对溅射ZnO薄膜的形貌和内应力的影响
常春荣, 李子全, 徐芸芸, 周衡志, 骆心怡
2006, 12(2): 95-98.
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无机EL显示器件用高性能介电层的研究
肖田, 林明通, 徐毅, 陈晨曦, 陈国荣, 杨云霞
2006, 12(2): 99-102.
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磁控溅射Ni-Mn-Ga薄膜的磁致应变
郭世海, 张羊换, 陈自新, 李长生, 王国清, 王新林
2006, 12(2): 103-107.
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纳米镍/炭复合材料的制备与磁性表征
赵军, 周伟良, 徐复铭, 巩丽
2006, 12(2): 108-112.
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有机光致变色材料的合成与多阶存储实验研究
刘学东, 石明, 张复实
2006, 12(2): 117-119.
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OLEDs中CuPc缓冲层作用的AFM与XPS研究
欧谷平, 宋珍, 桂文明, 齐丙丽, 王方聪, 张福甲
2006, 12(2): 120-124.
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掺杂材料对蓝光OLED器件性能的影响
季兴桥, 黎威志, 钟志有, 王涛, 蒋亚东
2006, 12(2): 125-129.
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4H-SiC隐埋沟道MOSFET亚阈特性研究
郜锦侠, 张义门, 张玉明, 汤晓燕
2006, 12(2): 130-134.
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用于MEMS结构的光刻胶牺牲层接触平坦化技术
邢向龙, 焦继伟, Mark Daffron, 王跃林, Hyung Choi
2006, 12(2): 135-138,154.
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化学气相反应合成MoS2纳米管的研究
高宾, 许启明, 赵鹏, 姚燕燕, 田晓珍
2006, 12(2): 143-146.
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新型可返工环氧底部填充料的合成和性能
童凌杰, 王鹏, 肖斐
2006, 12(2): 147-150.
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Mo元素对铁镍热磁合金性能的影响
敖晖, 李平, 曲选辉
2006, 12(2): 151-154.
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纳米CdS材料的研究与应用进展
董延茂
2006, 12(2): 163-168.
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2006北京国际材料周即将举行
2006, 12(2): 162-162.
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