45nm PCRAM对GST CMP的挑战和解决方法

    摘要
  • 摘要: 本文报导GST(Ge2Sb2Te5) CMP工艺的挑战和解决方法。通过适当的抛光垫选择、工艺方案和清洗步骤优化解决GST的污染问题。实现最小氧化物损失的关键因素是抛光液的稀释比例和H2O2浓度的优化和控制过抛光。微微秒激光acoustics型测量工具证明适用于GST CMP工艺的在线和离线监控。

     

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