优先发表

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基于InCaOx/HfAlOx的高性能低压操作FET的构筑及其在逻辑反相器中的应用
夏渝沣, 何刚
DOI: 10.20027/j.gncq.2025.0020
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原子层沉积反应器的数值模拟研究进展
张杭波, 严颖萍, 王林林, 陈国昊, 平慧慧, 庄黎伟
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基于原子层沉积技术的硼化物生长研究进展
陈鹏宇, 温新涛, 胡之琛, 奚斌
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原子层沉积在光电子器件制备领域的应用进展
董策, 姜宁, 王冠然, 王佳伟, 任舰洋, 谢思雨, 李野, 段羽
DOI: 10.20027/j.gncq.2025.0017
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